協定別全品目別規則一覧(HS2017)/Product-Specific Rules of Origin for EPAs (Schedule) (HS2017)

番号
/H.S. code
品名
/Description
日EU経済連携協定
/Japan-EU EPA
日米貿易協定/Trade Agreemnt between Japan and the United of America日英包括的経済連携協定
/Japan-UK CEPA
34せつけん、有機界面活性剤、洗剤、調製潤滑剤、人造ろう、調製ろう、磨き剤、ろうそくその他これに類する物品、モデリングペースト、歯科用ワックス及びプラスターをもととした歯科用の調製品
Soap, organic surface-active agents, washing preparations, lubricating preparations, artificial waxes, prepared waxes, polishing or scouring preparations, candles and similar articles, modelling pastes, "dental waxes" and dental preparations with a basis of plaster
34.01せつけん、有機界面活性剤及びその調製品(せつけんとして使用するもので、棒状にし、ケーキ状にし又は成型したものに限るものとし、せつけんを含有するかしないかを問わない。)、有機界面活性剤及びその調製品(皮膚の洗浄に使用するもので、液状又はクリーム状で小売用にしたものに限るものとし、せつけんを含有するかしないかを問わない。)並びにせつけん又は洗浄剤を染み込ませ、塗布し又は被覆した紙、ウォッディング、フェルト及び不織布
Soap; organic surface-active products and preparations for use as soap, in the form of bars, cakes, moulded pieces or shapes, whether or not containing soap; organic surface-active products and preparations for washing the skin, in the form of liquid or cream and put up for retail sale, whether or not containing soap; paper, wadding, felt and nonwovens, impregnated, coated or covered with soap or detergent.
せつけん、有機界面活性剤及びその調製品(棒状にし、ケーキ状にし又は成型したものに限る。)並びにせつけん又は洗浄剤を染み込ませ、塗布し又は被覆した紙、ウォッディング、フェルト及び不織布
Soap and organic surface-active products and preparations, in the form of bars, cakes, moulded pieces or shapes, and paper, wadding, felt and nonwovens, impregnated, coated or covered with soap or detergent :
3401.11化粧用のもの(薬用のものを含む。)CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
For toilet use (including medicated products)CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3401.19その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3401.20せつけん(その他の形状のもの)CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Soap in other formsCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3401.30有機界面活性剤及びその調製品(皮膚の洗浄に使用するもので、液状又はクリーム状で小売用にしたものに限るものとし、せつけんを含有するかしないかを問わない。)CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Organic surface-active products and preparations for washing the skin, in the form of liquid or cream and put up for retail sale, whether or not containing soapCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.02有機界面活性剤(せつけんを除く。)並びに調製界面活性剤、調製洗剤、補助的調製洗剤及び清浄用調製品(せつけんを含有するかしないかを問わないものとし、第34.01項のものを除く。)
Organic surface-active agents (other than soap); surface-active preparations, washing preparations (including auxiliary washing preparations) and cleaning preparations, whether or not containing soap, other than those of heading 34.01.
有機界面活性剤(小売用にしてあるかないかを問わない。)
Organic surface-active agents, whether or not put up for retail sale :
3402.11陰イオン(アニオン)系のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
AnionicCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3402.12陽イオン(カチオン)系のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CationicCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3402.13非イオン系のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Non-ionicCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3402.19その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3402.20調製品(小売用にしたものに限る。)CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Preparations put up for retail saleCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3402.90その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.03調製潤滑剤(調製した切削油、ボルト又はナットの離脱剤、防錆防食剤及び離型剤で、潤滑剤をもととしたものを含む。)及び紡織用繊維、革、毛皮その他の材料のオイリング又は加脂処理に使用する種類の調製品(石油又は歴青油の含有量が全重量の70%以上で、かつ、石油又は歴青油が基礎的な成分を成す当該調製潤滑剤及び当該調製品を除く。)
Lubricating preparations (including cutting -oil preparations, bolt or nut release preparations, anti-rust or anti-corrosion preparations and mould release preparations, based on lubricants) and preparations of a kind used for the oil or grease treatment of textile materials, leather, furskins or other materials, but excluding preparations containing, as basic constituents, 70 % or more by weight of petroleum oils or of oils obtained from bituminous minerals.
石油又は歴青油を含有するもの
Containing petroleum oils or oils obtained from bituminous minerals
3403.11紡織用繊維、革、毛皮その他の材料の処理用の調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Preparations for the treatment of textile materials, leather, furskins or other materialsCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3403.19その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
その他のもの
Other
3403.91紡織用繊維、革、毛皮その他の材料の処理用の調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Preparations for the treatment of textile materials, leather, furskins or other materialsCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3403.99その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.04人造ろう及び調製ろう
Artificial waxes and prepared waxes.
3404.20ポリ(オキシエチレン)(ポリエチレングリコール)のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Of poly(oxyethylene) (polyethylene glycol)CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3404.90その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.05履物用、家具用、床用、車体用、ガラス用又は金属用の磨き料及びクリーム、擦り磨き用のペースト及び粉並びにこれらに類する調製品(この項の調製品を染み込ませ、塗布し又は被覆した紙、ウォッディング、フェルト、不織布、プラスチックフォーム及びセルラーラバーを含むものとし、第34.04項のろうを除く。)
Polishes and creams, for footwear, furniture, floors, coachwork, glass or metal, scouring pastes and powders and similar preparations (whether or not in the form of paper, wadding, felt, nonwovens, cellular plastics or cellular rubber, impregnated, coated or covered with such preparations), excluding waxes of heading 34.04.
3405.10履物用又は革用の磨き料、クリームその他これらに類する調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Polishes, creams and similar preparations for footwear or leatherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3405.20木製の家具、床その他の木製品の維持用の磨き料、クリームその他これらに類する調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Polishes, creams and similar preparations for the maintenance of wooden furniture, floors or other woodworkCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3405.30車体用の磨き料その他これに類する調製品(メタルポリッシュを除く。)CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Polishes and similar preparations for coachwork, other than metal polishesCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3405.40擦り磨き用のペースト、粉その他の調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Scouring pastes and powders and other scouring preparationsCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
3405.90その他のものCTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
OtherCTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.06
3406.00ろうそく及びこれに類する物品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Candles, tapers and the like.CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
34.07
3407.00モデリングペースト(児童用のものを含む。)、歯科用のワックス及び印象材(セットにし、小売用の包装にし又は板状、馬蹄状、棒状その他これらに類する形状にしたものに限る。)並びに焼いた石膏又は硫酸カルシウムから成るプラスターをもととしたその他の歯科用の調製品CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
CTSH、
化学反応、精製、標準物質の生産若しくは異性体分離が行われること、
MaxNOM五十パーセント(EXW)又は
RVC五十五パーセント(FOB)
Modelling pastes, including those put up for children's amusement; preparations known as “dental wax” or as “dental impression compounds”, put up in sets, in packings for retail sale or in plates, horseshoe shapes, sticks or similar forms; other preparations for use in dentistry, with a basis of plaster (of calcined gypsum or calcium sulphate).CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).
CTSH;
A chemical reaction, purification, production of standard materials or isomer separation is undergone;
MaxNOM 50 % (EXW); or
RVC 55 % (FOB).