協定別全品目別規則一覧(HS2017)/Product-Specific Rules of Origin for EPAs (Schedule) (HS2017)
番号 /H.S. code | 品名 /Description | 日EU経済連携協定 /Japan-EU EPA | 日米貿易協定/Trade Agreemnt between Japan and the United of America | 日英包括的経済連携協定 /Japan-UK CEPA |
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33 | 精油、レジノイド、調製香料及び化粧品類 | |||
Essential oils and resinoids; perfumery, cosmetic or toilet preparations | ||||
33.01 | 精油(コンクリートのもの及びアブソリュートのものを含むものとし、テルペンを除いてあるかないかを問わない。)、レジノイド、オレオレジン抽出物、精油のコンセントレート(冷浸法又は温浸法により得たもので、油脂、ろうその他これらに類する物品を媒質としているものに限る。)、精油からテルペンを除く際に生ずるテルペン系副産物並びに精油のアキュアスディスチレート及びアキュアスソリューション | |||
Essential oils (terpeneless or not), including concretes and absolutes; resinoids; extracted oleoresins; concentrates of essential oils in fats, in fixed oils, in waxes or the like, obtained by enfleurage or maceration; terpenic by-products of the deterpenation of essential oils; aqueous distillates and aqueous solutions of essential oils. | ||||
精油(かんきつ類の果実のものに限る。) | ||||
Essential oils of citrus fruit | ||||
3301.12 | オレンジのもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Of orange | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.13 | レモンのもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Of lemon | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.19 | その他のもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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精油(かんきつ類の果実のものを除く。) | ||||
Essential oils other than those of citrus fruit | ||||
3301.24 | ペパーミント(メンタ・ピペリタ)のもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Of peppermint (Mentha piperita) | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.25 | その他のミントのもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Of other mints | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.29 | その他のもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.30 | レジノイド | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Resinoids | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3301.90 | その他のもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | CTSH | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | CTSH | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.02 | 香気性物質の混合物及び一以上の香気性物質をもととした混合物(アルコール溶液を含むものとし、工業において原材料として使用する種類のものに限る。)並びに香気性物質をもととしたその他の調製品(飲料製造に使用する種類のものに限る。) | |||
Mixtures of odoriferous substances and mixtures (including alcoholic solutions) with a basis of one or more of these substances, of a kind used as raw materials in industry; other preparations based on odoriferous substances, of a kind used for the manufacture of beverages. | ||||
3302.10 | 食品工業又は飲料工業において使用する種類のもの | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTH、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Of a kind used in the food or drink industries | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3302.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.03 | ||||
3303.00 | 香水類及びオーデコロン類 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Perfumes and toilet waters. | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.04 | 美容用、メーキャップ用又は皮膚の手入れ用の調製品(日焼止め用又は日焼け用の調製品を含むものとし、医薬品を除く。)及びマニキュア用又はペディキュア用の調製品 | |||
Beauty or make-up preparations and preparations for the care of the skin (other than medicaments), including sunscreen or sun tan preparations; manicure or pedicure preparations. | ||||
3304.10 | 唇のメーキャップ用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Lip make-up preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB) | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3304.20 | 眼のメーキャップ用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Eye make-up preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB) | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3304.30 | マニキュア用又はペディキュア用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Manicure or pedicure preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB) | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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その他のもの | ||||
Other | ||||
3304.91 | パウダー(固形にしたものを含む。) | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Powders, whether or not compressed | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB) | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3304.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB) | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.05 | 頭髪用の調製品 | |||
Preparations for use on the hair. | ||||
3305.10 | シャンプー | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Shampoos | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3305.20 | パーマネント用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Preparations for permanent waving or straightening | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3305.30 | ヘアラッカー | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Hair lacquers | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3305.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.06 | 口腔衛生用の調製品(義歯定着用のペースト及び粉を含む。)及び小売用の包装にした歯間清掃用の糸(デンタルフロス) | |||
Preparations for oral or dental hygiene, including denture fixative pastes and powders; yarn used to clean between the teeth (dental floss), in individual retail packages. | ||||
3306.10 | 歯磨き | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Dentifrices | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3306.20 | 歯間清掃用の糸(デンタルフロス) | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Yarn used to clean between the teeth (dental floss) | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3306.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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33.07 | ひげそり前用、ひげそり用又はひげそり後用の調製品、身体用の防臭剤、浴用の調製品、脱毛剤その他の調製香料及び化粧品類(他の項に該当するものを除く。)並びに調製した室内防臭剤(芳香を付けてあるかないか又は消毒作用を有するか有しないかを問わない。) | |||
Pre-shave, shaving or after-shave preparations, personal deodorants, bath preparations, depilatories and other perfumery, cosmetic or toilet preparations, not elsewhere specified or included; prepared room deodorisers, whether or not perfumed or having disinfectant properties. | ||||
3307.10 | ひげそり前用、ひげそり用又はひげそり後用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Pre-shave, shaving or after-shave preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3307.20 | 身体用の防臭剤及び汗止め | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Personal deodorants and antiperspirants | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3307.30 | 芳香を付けた浴用塩その他の浴用の調製品 | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Perfumed bath salts and other bath preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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室内に芳香を付けるため又は室内防臭用の調製品(宗教的儀式用の香気性の調製品を含む。) | ||||
Preparations for perfuming or deodorizing rooms, including odoriferous preparations used during religious rites | ||||
3307.41 | アガバティその他の香気性の調製品で燃焼させて使用するもの | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
“Agarbatti” and other odoriferous preparations which operate by burning | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3307.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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3307.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) | ― | CTSH、 化学反応、精製、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント(EXW)又は RVC五十五パーセント(FOB) |
Other | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |