協定別全品目別規則一覧（HS2017）/Product-Specific Rules of Origin for EPAs (Schedule) (HS2017)
| 番号 /H.S. code | 品名 /Description | 日EU経済連携協定 ／Japan-EU EPA | 日米貿易協定／Trade Agreemnt between Japan and the United of America | 日英包括的経済連携協定 ／Japan-UK CEPA |
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| 32 | なめしエキス、染色エキス、タンニン及びその誘導体、染料、顔料その他の着色料、ペイント、ワニス、パテその他のマスチック並びにインキ | |||
| Tanning or dyeing extracts; tannins and their derivatives; dyes, pigments and other colouring matter; paints and varnishes; putty and other mastics; inks | ||||
| 32.01 | 植物性なめしエキス並びにタンニン及びその塩、エーテル、エステルその他の誘導体 | |||
| Tanning extracts of vegetable origin; tannins and their salts, ethers, esters and other derivatives. | ||||
| 3201.10 | ケブラチョエキス | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Quebracho extract | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3201.20 | ワットルエキス | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Wattle extract | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3201.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.02 | 合成有機なめし剤、無機なめし剤、調製したなめし剤（天然なめし料を含有するかしないかを問わない。）及びなめし前処理用の酵素系調製品 | |||
| Synthetic organic tanning substances; inorganic tanning substances; tanning preparations, whether or not containing natural tanning substances; enzymatic preparations for pre-tanning. | ||||
| 3202.10 | 合成有機なめし剤 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Synthetic organic tanning substances | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3202.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.03 | ||||
| 3203.00 | 植物性又は動物性の着色料（染色エキスを含み、化学的に単一であるかないかを問わないものとし、獣炭を除く。）及びこの類の注3の調製品で植物性又は動物性の着色料をもととしたもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Colouring matter of vegetable or animal origin (including dyeing extracts but excluding animal black), whether or not chemically defined; preparations as specified in Note 3 to this Chapter based on colouring matter of vegetable or animal origin. | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.04 | 有機合成着色料（化学的に単一であるかないかを問わない。）、この類の注3の調製品で有機合成着色料をもととしたもの及び蛍光増白剤又はルミノホアとして使用する種類の合成した有機物（化学的に単一であるかないかを問わない。） | |||
| Synthetic organic colouring matter, whether or not chemically defined; preparations as specified in Note 3 to this Chapter based on synthetic organic colouring matter; synthetic organic products of a kind used as fluorescent brightening agents or as luminophores, whether or not chemically defined. | ||||
| 有機合成着色料及びこの類の注3の調製品で有機合成着色料をもととしたもの | ||||
| Synthetic organic colouring matter and preparations based thereon as specified in Note 3 to this Chapter : | ||||
| 3204.11 | 分散染料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Disperse dyes and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.12 | 酸性染料（金属塩にしてあるかないかを問わない。）及びこれをもととした調製品並びに媒染染料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acid dyes, whether or not premetallised, and preparations based thereon; mordant dyes and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.13 | 塩基性染料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Basic dyes and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.14 | 直接染料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Direct dyes and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.15 | 建染め染料（顔料としてそのまま使用することができるものを含む。）及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vat dyes (including those usable in that state as pigments) and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.16 | 反応染料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Reactive dyes and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.17 | 顔料及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pigments and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.19 | その他のもの（第3204.11号から第3204.19号までのうち二以上の号の着色料を混合した物品を含む。） | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other, including mixtures of colouring matter of two or more of the subheadings 3204.11 to 3204.19 | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.20 | 蛍光増白剤として使用する種類の合成した有機物 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Synthetic organic products of a kind used as fluorescent brightening agents | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3204.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.05 | ||||
| 3205.00 | レーキ顔料及びこの類の注3の調製品でレーキ顔料をもととしたもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Colour lakes; preparations as specified in Note 3 to this Chapter based on colour lakes. | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.06 | その他の着色料、この類の注3の調製品（第32.03項から第32.05項までのものを除く。）及びルミノホアとして使用する種類の無機物（化学的に単一であるかないかを問わない。） | |||
| Other colouring matter; preparations as specified in Note 3 to this Chapter, other than those of heading 32.03, 32.04 or 32.05; inorganic products of a kind used as luminophores, whether or not chemically defined. | ||||
| 二酸化チタンをもととした顔料及び調製品 | ||||
| Pigments and preparations based on titanium dioxide : | ||||
| 3206.11 | 二酸化チタンの含有量が乾燥状態において全重量の80％以上のもの | CTH（ただし、第三二・〇六項の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM四十パーセント（EXW）又は RVC六十五パーセント（FOB） | ― | CTH（ただし、第三二・〇六項の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM四十パーセント（EXW）又は RVC六十五パーセント（FOB） |
| Containing 80 % or more by weight of titanium dioxide calculated on the dry matter | CTH; however, non-originating materials of heading 32.06 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 40 % (EXW); or RVC 65 % (FOB). | ― | CTH; however, non-originating materials of heading 32.06 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 40 % (EXW); or RVC 65 % (FOB). |
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| 3206.19 | その他のもの | CTH（ただし、第三二・〇六項の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM四十パーセント（EXW）又は RVC六十五パーセント（FOB） | ― | CTH（ただし、第三二・〇六項の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM四十パーセント（EXW）又は RVC六十五パーセント（FOB） |
| Other | CTH; however, non-originating materials of heading 32.06 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 40 % (EXW); or RVC 65 % (FOB). | ― | CTH; however, non-originating materials of heading 32.06 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 40 % (EXW); or RVC 65 % (FOB). |
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| 3206.20 | クロム化合物をもととした顔料及び調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pigments and preparations based on chromium compounds | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| その他の着色料及び調製品 | ||||
| Other colouring matter and other preparations : | ||||
| 3206.41 | ウルトラマリン及びこれをもととした調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ultramarine and preparations based thereon | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3206.42 | 硫化亜鉛をもととしたリトポンその他の顔料及び調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lithopone and other pigments and preparations based on zinc sulphide | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3206.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3206.50 | ルミノホアとして使用する種類の無機物 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Inorganic products of a kind used as luminophores | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.07 | 調製顔料、調製乳白剤、調製絵の具、ほうろう、うわぐすり、うわぐすり用のスリップ、液状ラスターその他これらに類する調製品（窯業に使用する種類のものに限る。）及びガラスフリットその他のガラスで粉状、粒状又はフレーク状のもの | |||
| Prepared pigments, prepared opacifiers and prepared colours, vitrifiable enamels and glazes, engobes (slips), liquid lustres and similar preparations, of a kind used in the ceramic, enamelling or glass industry; glass frit and other glass, in the form of powder, granules or flakes. | ||||
| 3207.10 | 調製顔料、調製乳白剤、調製絵の具その他これらに類する調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Prepared pigments, prepared opacifiers, prepared colours and similar preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3207.20 | ほうろう、うわぐすり、うわぐすり用のスリップその他これらに類する調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitrifiable enamels and glazes, engobes (slips) and similar preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3207.30 | 液状ラスターその他これに類する調製品 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Liquid lustres and similar preparations | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3207.40 | ガラスフリットその他のガラスで粉状、粒状又はフレーク状のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Glass frit and other glass, in the form of powder, granules or flakes | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.08 | ペイント及びワニス（エナメル及びラッカーを含むものとし、合成重合体又は化学的に変性させた天然重合体をもととしたもので、水以外の媒体に分散させ又は溶解させたものに限る。）並びにこの類の注4の溶液 | |||
| Paints and varnishes (including enamels and lacquers) based on synthetic polymers or chemically modified natural polymers, dispersed or dissolved in a non-aqueous medium; solutions as defined in Note 4 to this Chapter. | ||||
| 3208.10 | ポリエステルをもととしたもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Based on polyesters | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3208.20 | アクリル重合体又はビニル重合体をもととしたもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Based on acrylic or vinyl polymers | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3208.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.09 | ペイント及びワニス（エナメル及びラッカーを含むものとし、合成重合体又は化学的に変性させた天然重合体をもととしたもので、水性媒体に分散させ又は溶解させたものに限る。） | |||
| Paints and varnishes (including enamels and lacquers) based on synthetic polymers or chemically modified natural polymers, dispersed or dissolved in an aqueous medium. | ||||
| 3209.10 | アクリル重合体又はビニル重合体をもととしたもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Based on acrylic or vinyl polymers | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3209.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.10 | ||||
| 3210.00 | その他のペイント及びワニス（エナメル、ラッカー及び水性塗料を含む。）並びに革の仕上げに使用する種類の調製水性顔料 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other paints and varnishes (including enamels, lacquers and distempers); prepared water pigments of a kind used for finishing leather. | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.11 | ||||
| 3211.00 | 調製ドライヤー | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Prepared driers. | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.12 | 顔料（金属の粉又はフレークから成るものを含むものとし、水以外の媒体に分散させ、かつ、ペイント（エナメルを含む。）の製造に使用する種類のもので、液状又はペースト状のものに限る。）、スタンプ用のはく及び小売用の形状又は包装にした染料その他の着色料 | |||
| Pigments (including metallic powders and flakes) dispersed in non-aqueous media, in liquid or paste form, of a kind used in the manufacture of paints (including enamels); stamping foils; dyes and other colouring matter put up in forms or packings for retail sale. | ||||
| 3212.10 | スタンプ用のはく | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Stamping foils | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3212.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.13 | 画家用、習画用、整色用又は遊戯用の絵の具、ポスターカラーその他これらに類する絵の具類（タブレット状、チューブ入り、瓶入り、皿入りその他これらに類する形状又は包装のものに限る。） | |||
| Artists', students' or signboard painters' colours, modifying tints, amusement colours and the like, in tablets, tubes, jars, bottles, pans or in similar forms or packings. | ||||
| 3213.10 | 絵の具セット | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Colours in sets | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3213.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.14 | ガラス用又は接ぎ木用のパテ、レジンセメント、閉そく用のコンパウンドその他のマスチック及び塗装用の充てん料並びに建物の外面、室内の壁、床、天井その他これらに類する面用の非耐火性調製上塗り材 | |||
| Glaziers' putty, grafting putty, resin cements, caulking compounds and other mastics; painters' fillings; nonrefractory surfacing preparations for facades, indoor walls, floors, ceilings or the like. | ||||
| 3214.10 | ガラス用又は接ぎ木用のパテ、レジンセメント、閉そく用のコンパウンドその他のマスチック及び塗装用の充てん料 | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Glaziers' putty, grafting putty, resin cements, caulking compounds and other mastics; painters' fillings | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3214.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 32.15 | 印刷用、筆記用又は製図用のインキその他のインキ（濃縮してあるかないか又は固形のものであるかないかを問わない。） | |||
| Printing ink, writing or drawing ink and other inks, whether or not concentrated or solid. | ||||
| 印刷用インキ | ||||
| Printing ink : | ||||
| 3215.11 | 黒色のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Black | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3215.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 3215.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、混合及び調合、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, mixing and blending, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |