協定別全品目別規則一覧（HS2017）/Product-Specific Rules of Origin for EPAs (Schedule) (HS2017)
| 番号 /H.S. code | 品名 /Description | 日EU経済連携協定 ／Japan-EU EPA | 日米貿易協定／Trade Agreemnt between Japan and the United of America | 日英包括的経済連携協定 ／Japan-UK CEPA |
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| 29 | 有機化学品 | |||
| Organic chemicals | ||||
| 第1節 炭化水素並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| I.- HYDROCARBONS AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED OR NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.01 | 非環式炭化水素 | |||
| Acyclic hydrocarbons. | ||||
| 2901.10 | 飽和のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Saturated | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 不飽和のもの | ||||
| Unsaturated | ||||
| 2901.21 | エチレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2901.22 | プロペン（プロピレン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Propene (propylene) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2901.23 | ブテン（ブチレン）及びその異性体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Butene (butylene) and isomers thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2901.24 | ブタ-1,3-ジエン及びイソプレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Buta-1,3-diene and isoprene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2901.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.02 | 環式炭化水素 | |||
| Cyclic hydrocarbons. | ||||
| 飽和脂環式炭化水素、不飽和脂環式炭化水素及びシクロテルペン炭化水素 | ||||
| Cyclanes, cyclenes and cycloterpenes | ||||
| 2902.11 | シクロヘキサン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclohexane | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.20 | ベンゼン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Benzene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.30 | トルエン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Toluene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| キシレン | ||||
| Xylenes | ||||
| 2902.41 | オルト-キシレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| o-Xylene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.42 | メタ-キシレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| m-Xylene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.43 | パラ-キシレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| p-Xylene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.44 | キシレン異性体の混合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Mixed xylene isomers | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.50 | スチレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Styrene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.60 | エチルベンゼン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylbenzene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.70 | クメン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cumene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2902.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.03 | 炭化水素のハロゲン化誘導体 | |||
| Halogenated derivatives of hydrocarbons. | ||||
| 非環式炭化水素の塩素化誘導体（飽和のものに限る。） | ||||
| Saturated chlorinated derivatives of acyclic hydrocarbons | ||||
| 2903.11 | クロロメタン（塩化メチル）及びクロロエタン（塩化エチル） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chloromethane (methyl chloride) and chloroethane (ethyl chloride) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.12 | ジクロロメタン（塩化メチレン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dichloromethane (methylene chloride) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.13 | クロロホルム（トリクロロメタン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chloroform (trichloromethane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.14 | 四塩化炭素 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Carbon tetrachloride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.15 | 二塩化エチレン（ISO）（1,2-ジクロロエタン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylene dichloride (ISO) (1,2-dichloroethane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 非環式炭化水素の塩素化誘導体（不飽和のものに限る。） | ||||
| Unsaturated chlorinated derivatives of acyclic hydrocarbons | ||||
| 2903.21 | 塩化ビニル（クロロエチレン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vinyl chloride (chloroethylene) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.22 | トリクロロエチレン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Trichloroethylene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.23 | テトラクロロエチレン（ペルクロロエチレン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetrachloroethylene (perchloroethylene) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 非環式炭化水素のふつ素化誘導体、臭素化誘導体及びよう素化誘導体 | ||||
| Fluorinated, brominated or iodinated derivatives of acyclic hydrocarbons | ||||
| 2903.31 | 二臭化エチレン（ISO）（1,2-ジブロモエタン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylene dibromide (ISO) (1,2-dibromoethane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 非環式炭化水素のハロゲン化誘導体（二以上の異なるハロゲン原子を有するものに限る。） | ||||
| Halogenated derivatives of acyclic hydrocarbons containing two or more different halogens : | ||||
| 2903.71 | クロロジフルオロメタン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlorodifluoromethane | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.72 | ジクロロトリフルオロエタン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dichlorotrifluoroethanes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.73 | ジクロロフルオロエタン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dichlorofluoroethanes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.74 | クロロジフルオロエタン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlorodifluoroethanes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.75 | ジクロロペンタフルオロプロパン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dichloropentafluoropropanes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.76 | ブロモクロロジフルオロメタン、ブロモトリフルオロメタン及びジブロモテトラフルオロエタン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Bromochlorodifluoromethane, bromotrifluoromethane and dibromotetrafluoroethanes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.77 | その他のペルハロゲン化誘導体（ふつ素原子及び塩素原子のみを有するものに限る。） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other, perhalogenated only with fluorine and chlorine | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.78 | その他のペルハロゲン化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other perhalogenated derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.79 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 飽和脂環式炭化水素、不飽和脂環式炭化水素又はシクロテルペン炭化水素のハロゲン化誘導体 | ||||
| Halogenated derivatives of cyclanic, cyclenic or cycloterpenic hydrocarbons : | ||||
| 2903.81 | 1,2,3,4,5,6-ヘキサクロロシクロヘキサン（HCH（ISO））（リンデン（ISO、INN）を含む。） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 1,2,3,4,5,6-Hexachlorocyclohexane (HCH (ISO)), including lindane (ISO, INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.82 | アルドリン（ISO）、クロルデン（ISO）及びヘプタクロル（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aldrin (ISO), chlordane (ISO) and heptachlor (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.83 | マイレックス（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Mirex (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2903.89 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 芳香族炭化水素のハロゲン化誘導体 | ||||
| Halogenated derivatives of aromatic hydrocarbons | ||||
| 2903.91 | クロロベンゼン、オルト-ジクロロベンゼン及びパラ-ジクロロベンゼン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlorobenzene, o-dichlorobenzene and p-dichlorobenzene | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.92 | ヘキサクロロベンゼン（ISO）及びDDT（ISO）（クロフェノタン（INN）、1,1,1-トリクロロ-2,2-ビス(パラ-クロロフェニル)エタン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Hexachlorobenzene (ISO) and DDT (ISO) (clofenotane (INN), 1,1,1-trichloro-2,2-bis(p-chlorophenyl)ethane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.93 | ペンタクロロベンゼン（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pentachlorobenzene (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.94 | ヘキサプロモビフェニル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Hexabromobiphenyls | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2903.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.04 | 炭化水素のスルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体（ハロゲン化してあるかないかを問わない。） | |||
| Sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives of hydrocarbons, whether or not halogenated. | ||||
| 2904.10 | スルホン基のみを有する誘導体並びにその塩及びエチルエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Derivatives containing only sulpho groups, their salts and ethyl esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.20 | ニトロ基又はニトロソ基のみを有する誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Derivatives containing only nitro or only nitroso groups | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| ペルフルオロオクタンスルホン酸及びその塩並びにペルフルオロオクタンスルホニルフルオリド | ||||
| Perfluorooctane sulphonic acid, its salts and perfluorooctane sulphonyl fluoride | ||||
| 2904.31 | ペルフルオロオクタンスルホン酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Perfluorooctane sulphonic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.32 | ペルフルオロオクタンスルホン酸アンモニウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ammonium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.33 | ペルフルオロオクタンスルホン酸リチウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lithium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.34 | ペルフルオロオクタンスルホン酸カリウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Potassium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.35 | その他のペルフルオロオクタンスルホン塩酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other salts of perfluorooctane sulphonic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2904.36 | ペルフルオロオクタンスルホニルフルオリド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Perfluorooctane sulphonyl fluoride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2904.91 | トリクロロニトロメタン（クロロピクリン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Trichloronitromethane (chloropicrin) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2904.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 第2節 アルコール並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| II.- ALCOHOLS AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED OR NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.05 | 非環式アルコール並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Acyclic alcohols and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 飽和一価アルコール | ||||
| Saturated monohydric alcohols : | ||||
| 2905.11 | メタノール（メチルアルコール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methanol (methyl alcohol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.12 | プロパン-1-オール（プロピルアルコール）及びプロパン-2-オール（イソプロピルアルコール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Propan-1-ol (propyl alcohol) and propan-2-ol (isopropyl alcohol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.13 | ブタン-1-オール（ノルマル-ブチルアルコール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Butan-1-ol (n-butyl alcohol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.14 | その他のブタノール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other butanols | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.16 | オクタノール（オクチルアルコール）及びその異性体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Octanol (octyl alcohol) and isomers thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.17 | ドデカン-1-オール（ラウリルアルコール）、ヘキサデカン-1-オール（セチルアルコール）及びオクタデカン-1-オール（ステアリルアルコール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dodecan-1-ol (lauryl alcohol), hexadecan-1-ol (cetyl alcohol) and octadecan-1-ol (stearyl alcohol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 不飽和一価アルコール | ||||
| Unsaturated monohydric alcohols | ||||
| 2905.22 | 非環式テルペンアルコール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acyclic terpene alcohols | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 二価アルコール | ||||
| Diols | ||||
| 2905.31 | エチレングリコール（エタンジオール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylene glycol (ethanediol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.32 | プロピレングリコール（プロパン-1,2-ジオール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Propylene glycol (propane-1,2-diol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他の多価アルコール | ||||
| Other polyhydric alcohols | ||||
| 2905.41 | 2-エチル-2-(ヒドロキシメチル)プロパン-1,3-ジオール（トリメチロールプロパン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＣ | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-Ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol(trimethylolpropane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＣ | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.42 | ペンタエリトリトール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pentaerythritol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.43 | マンニトール | CTH（第一七・〇二項及び第三八二四・六〇号の材料からの変更を除く。） | ＣＴＳＨ | CTH（第一七・〇二項及び第三八二四・六〇号の材料からの変更を除く。） |
| Mannitol | CTH except from heading 17.02 and subheading 3824.60. | ＣＴＳＨ | CTH except from heading 17.02 and subheading 3824.60. | |
| 2905.44 | D-グルシトール（ソルビトール） | CTH（第一七・〇二項及び第三八二四・六〇号の材料からの変更を除く。） | ＣＴＳＨ | CTH（第一七・〇二項及び第三八二四・六〇号の材料からの変更を除く。） |
| D-glucitol (sorbitol) | CTH except from heading 17.02 and subheading 3824.60. | ＣＴＳＨ | CTH except from heading 17.02 and subheading 3824.60. | |
| 2905.45 | グリセリン | CTH（ただし、第二九〇五・四五号の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ＣＴＳＨ | CTH（ただし、第二九〇五・四五号の非原産材料は、その総額が産品のEXWの二十パーセント又はFOBの十五パーセントを超えないことを条件として、使用することができる。）、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Glycerol | CTH; however, non-originating materials of subheading 2905.45 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ＣＴＳＨ | CTH; however, non-originating materials of subheading 2905.45 may be used, provided that their total value does not exceed 20 % of the EXW or 15 % of the FOB of the product; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 非環式アルコールのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives of acyclic alcohols : | ||||
| 2905.51 | エトクロルビノール（INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethchlorvynol (INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2905.59 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.06 | 環式アルコール並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Cyclic alcohols and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 飽和脂環式アルコール、不飽和脂環式アルコール及びシクロテルペンアルコール並びにこれらの誘導体 | ||||
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic : | ||||
| 2906.11 | メントール | CTSH | ― | CTSH |
| Menthol | CTSH | ― | CTSH | |
| 2906.12 | シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール及びジメチルシクロヘキサノール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclohexanol, methylcyclohexanols and dimethylcyclohexanols | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2906.13 | ステロール及びイノシトール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Sterols and inositols | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2906.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族アルコール及びその誘導体 | ||||
| Aromatic | ||||
| 2906.21 | ベンジルアルコール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Benzyl alcohol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2906.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第3節 フェノール及びフェノールアルコール並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| III.- PHENOLS, PHENOL-ALCOHOLS, AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.07 | フェノール及びフェノールアルコール | |||
| Phenols; phenol-alcohols. | ||||
| 一価フェノール | ||||
| Monophenols : | ||||
| 2907.11 | 石炭酸（ヒドロキシベンゼン）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Phenol (hydroxybenzene) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.12 | クレゾール及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cresols and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.13 | オクチルフェノール及びノニルフェノール並びにこれらの異性体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Octylphenol, nonylphenol and their isomers; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.15 | ナフトール及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Naphthols and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 多価フェノール及びフェノールアルコール | ||||
| Polyphenols; phenol-alcohols : | ||||
| 2907.21 | レソルシノール及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Resorcinol and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2907.22 | ヒドロキノン（キノール）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Hydroquinone (quinol) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.23 | 4,4'-イソプロピリデンジフェノール（ビスフェノールA又はジフェニロールプロパン）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 4,4'-Isopropylidenediphenol (bisphenol A, diphenylolpropane) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2907.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.08 | フェノール又はフェノールアルコールのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives of phenols or phenol-alcohols. | ||||
| ハロゲン置換基のみを有する誘導体及びその塩 | ||||
| Derivatives containing only halogen substituents and their salts : | ||||
| 2908.11 | ペンタクロロフェノール（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pentachlorophenol (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2908.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2908.91 | ジノセブ（ISO）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dinoseb (ISO) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2908.92 | 4,6-ジニトロ-オルト-クレゾール(DNOC(ISO))及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 4,6-Dinitro-o-cresol (DNOC (ISO)) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2908.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 第4節 エーテル、アルコールペルオキシド、エーテルペルオキシド、ケトンペルオキシド、エポキシドで三員環のもの、アセタール及びヘミアセタール並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| IV.- ETHERS, ALCOHOL PEROXIDES, ETHER PEROXIDES, KETONE PEROXIDES, EPOXIDES WITH A THREE-MEMBERED RING, ACETALS AND HEMIACETALS, AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED OR NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.09 | エーテル、エーテルアルコール、エーテルフェノール、エーテルアルコールフェノール、アルコールペルオキシド、エーテルペルオキシド及びケトンペルオキシド（化学的に単一であるかないかを問わない。）並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Ethers, ether-alcohols, ether-phenols, ether-alcohol-phenols, alcohol peroxides, ether peroxides, ketone peroxides (whether or not chemically defined), and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 非環式エーテル並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Acyclic ethers and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives : | ||||
| 2909.11 | ジエチルエーテル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diethyl ether | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2909.20 | 飽和脂環式エーテル、不飽和脂環式エーテル及びシクロテルペンエーテル並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic ethers and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2909.30 | 芳香族エーテル並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aromatic ethers and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| エーテルアルコール並びにそのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Ether-alcohols and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives : | ||||
| 2909.41 | 2,2'-オキシジエタノール（ジエチレングリコール又はジゴール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2,2'-Oxydiethanol (diethylene glycol, digol) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.43 | エチレングリコール又はジエチレングリコールのモノブチルエーテル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Monobutyl ethers of ethyle glycol or of diethylene glycol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.44 | エチレングリコール又はジエチレングリコールのその他のモノアルキルエーテル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other monoalkylethers of ethylene glycol or of diethylene glycol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.50 | エーテルフェノール及びエーテルアルコールフェノール並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ether-phenols, ether-alcohol-phenols and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2909.60 | アルコールペルオキシド、エーテルペルオキシド及びケトンペルオキシド並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alcohol peroxides, ether peroxides, ketone peroxides and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.10 | 三員環のエポキシド、エポキシアルコール、エポキシフェノール及びエポキシエーテル並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Epoxides, epoxyalcohols, epoxyphenols and epoxyethers, with a three-membered ring, and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | ||||
| 2910.10 | オキシラン（エチレンオキシド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Oxirane (ethylene oxide) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2910.20 | メチルオキシラン（プロピレンオキシド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methyloxirane (propylene oxide) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2910.30 | 1-クロロ-2,3-エポキシプロパン（エピクロロヒドリン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 1-Chloro-2,3-epoxypropane (epichlorohydrin) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2910.40 | ディルドリン（ISO、INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dieldrin (ISO, INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2910.50 | エンドリン（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Endrin (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2910.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.11 | ||||
| 2911.00 | アセタール及びヘミアセタール（他の酸素官能基を有するか有しないかを問わない。）並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acetals and hemiacetals, whether or not with other oxygen function, and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第5節 アルデヒド官能化合物 | ||||
| V.- ALDEHYDE-FUNCTION COMPOUNDS | ||||
| 29.12 | アルデヒド（他の酸素官能基を有するか有しないかを問わない。）、アルデヒドの環式重合体及びパラホルムアルデヒド | |||
| Aldehydes, whether or not with other oxygen function; cyclic polymers of aldehydes; paraformaldehyde. | ||||
| 非環式アルデヒド（他の酸素官能基を有しないものに限る。） | ||||
| Acyclic aldehydes without other oxygen function : | ||||
| 2912.11 | メタナール（ホルムアルデヒド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methanal (formaldehyde) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2912.12 | エタナール（アセトアルデヒド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethanal (acetaldehyde) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2912.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 環式アルデヒド（他の酸素官能基を有しないものに限る。） | ||||
| Cyclic aldehydes without other oxygen function : | ||||
| 2912.21 | ベンズアルデヒド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Benzaldehyde | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2912.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| アルデヒドアルコール、アルデヒドエーテル、アルデヒドフェノール及び他の酸素官能基を有するアルデヒド | ||||
| Aldehyde-alcohols, aldehyde-ethers, aldehyde-phenols and aldehydes with other oxygen function : | ||||
| 2912.41 | バニリン（4-ヒドロキシ-3-メトキシベンズアルデヒド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vanillin (4-hydroxy-3-methoxybenzaldehyde) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2912.42 | エチルバニリン（3-エトキシ-4-ヒドロキシベンズアルデヒド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylvanillin (3-ethoxy-4-hydroxybenzaldehyde) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2912.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2912.50 | アルデヒドの環式重合体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclic polymers of aldehydes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2912.60 | パラホルムアルデヒド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Paraformaldehyde | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.13 | ||||
| 2913.00 | 第29.12項の物品のハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives of products of heading 29.12. | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第6節 ケトン官能化合物及びキノン官能化合物 | ||||
| VI.- KETONE-FUNCTION COMPOUNDS AND QUINONE-FUNCTION COMPOUNDS | ||||
| 29.14 | ケトン及びキノン（他の酸素官能基を有するか有しないかを問わない。）並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Ketones and quinones, whether or not with other oxygen function, and their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 非環式ケトン（他の酸素官能基を有しないものに限る。） | ||||
| Acyclic ketones without other oxygen function : | ||||
| 2914.11 | アセトン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acetone | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.12 | ブタノン（メチルエチルケトン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Butanone (methyl ethyl ketone) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.13 | 4-メチルペンタン-2-オン（メチルイソブチルケトン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 4-Methylpentan-2-one (methyl isobutyl ketone) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 飽和脂環式ケトン、不飽和脂環式ケトン及びシクロテルペンケトン（他の酸素官能基を有しないものに限る。） | ||||
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic ketones without other oxygen function : | ||||
| 2914.22 | シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclohexanone and methylcyclohexanones | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.23 | イオノン及びメチルイオノン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ionones and methylionones | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族ケトン（他の酸素官能基を有しないものに限る。） | ||||
| Aromatic ketones without other oxygen function : | ||||
| 2914.31 | フェニルアセトン（フェニルプロパン-2-オン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Phenylacetone (phenylpropan-2-one) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.40 | ケトンアルコール及びケトンアルデヒド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ketone-alcohols and ketone -aldehydes | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2914.50 | ケトンフェノール及び他の酸素官能基を有するケトン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ketone-phenols and ketones with other oxygen function | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| キノン | ||||
| Quinones | ||||
| 2914.61 | アントラキノン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Anthraquinone | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2914.62 | コエンザイムQ10（ユビデカレノン（INN）） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Coenzyme Q10 (ubidecarenone (INN)) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2914.69 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| ハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | ||||
| 2914.71 | クロルデコン（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlordecone (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2914.79 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 第7節 カルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| VII.- CARBOXYLIC ACIDS AND THEIR ANHYDRIDES, HALIDES, PEROXIDES AND PEROXYACIDS AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED OR NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.15 | 飽和非環式モノカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Saturated acyclic monocarboxylic acids and their anhydrides, halides, peroxides and peroxyacids; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| ぎ酸並びにその塩及びエステル | ||||
| Formic acid, its salts and esters : | ||||
| 2915.11 | ぎ酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Formic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2915.12 | ぎ酸の塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Salts of formic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.13 | ぎ酸のエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Esters of formic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 酢酸及びその塩並びに無水酢酸 | ||||
| Acetic acid and its salts; acetic anhydride : | ||||
| 2915.21 | 酢酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acetic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2915.24 | 無水酢酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acetic anhydride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2915.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 酢酸のエステル | ||||
| Esters of acetic acid : | ||||
| 2915.31 | 酢酸エチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethyl acetate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.32 | 酢酸ビニル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vinyl acetate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.33 | 酢酸ノルマル-ブチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| n-Butyl acetate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.36 | 酢酸ジノセブ（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dinoseb (ISO) acetate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.40 | モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸及びトリクロロ酢酸並びにこれらの塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Mono-, di- or trichloroacetic acids, their salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.50 | プロピオン酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Propionic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.60 | ブタン酸及びペンタン酸並びにこれらの塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Butanoic acids, pentanoic acids, their salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2915.70 | パルミチン酸及びステアリン酸並びにこれらの塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Palmitic acid, stearic acid, their salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2915.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.16 | 不飽和非環式モノカルボン酸及び環式モノカルボン酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Unsaturated acyclic monocarboxylic acids, cyclic monocarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides and peroxyacids; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 不飽和非環式モノカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Unsaturated acyclic monocarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | ||||
| 2916.11 | アクリル酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acrylic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.12 | アクリル酸のエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Esters of acrylic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2916.13 | メタクリル酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methacrylic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.14 | メタクリル酸のエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Esters of methacrylic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.15 | オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸並びにこれらの塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Oleic, linoleic or linolenic acids, their salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2916.16 | ビナパクリル（ISO) | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Binapacryl (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.20 | 飽和脂環式モノカルボン酸、不飽和脂環式モノカルボン酸及びシクロテルペンモノカルボン酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic monocarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族モノカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Aromatic monocarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives : | ||||
| 2916.31 | 安息香酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Benzoic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2916.32 | 過酸化ベンゾイル及び塩化ベンゾイル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Benzoyl peroxide and benzoyl chloride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2916.34 | フェニル酢酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Phenylacetic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2916.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.17 | ポリカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Polycarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides and peroxyacids; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 非環式ポリカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Acyclic polycarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives : | ||||
| 2917.11 | しゆう酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Oxalic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.12 | アジピン酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Adipic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2917.13 | アゼライン酸及びセバシン酸並びにこれらの塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Azelaic acid, sebacic acid, their salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.14 | 無水マレイン酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Maleic anhydride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2917.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2917.20 | 飽和脂環式ポリカルボン酸、不飽和脂環式ポリカルボン酸及びシクロテルペンポリカルボン酸並びにこれらの酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic polycarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族ポリカルボン酸並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Aromatic polycarboxylic acids, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives : | ||||
| 2917.32 | オルトフタル酸ジオクチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dioctyl orthophthalates | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.33 | オルトフタル酸ジノニル及びオルトフタル酸ジデシル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dinonyl or didecyl orthophthalates | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.34 | その他のオルトフタル酸エステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other esters of orthophthalic acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.35 | 無水フタル酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Phthalic anhydride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.36 | テレフタル酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Terephthalic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.37 | テレフタル酸ジメチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dimethyl terephthalate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2917.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.18 | カルボン酸（他の酸素官能基を有するものに限る。）並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Carboxylic acids with additional oxygen function and their anhydrides, halides, peroxides and peroxyacids; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| アルコール官能のカルボン酸（他の酸素官能基を有するものを除く。）並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Carboxylic acids with alcohol function but without other oxygen function, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | ||||
| 2918.11 | 乳酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lactic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.12 | 酒石酸 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tartaric acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.13 | 酒石酸の塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Salts and esters of tartaric acid | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.14 | くえん酸 | CTSH | ― | CTSH |
| Citric acid | CTSH | ― | CTSH | |
| 2918.15 | くえん酸の塩及びエステル | CTSH | ― | CTSH |
| Salts and esters of citric acid | CTSH | ― | CTSH | |
| 2918.16 | グルコン酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Gluconic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.17 | ２．２−ジフェニル-2-ヒドロキシ酢酸（ベンジル酸） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2,2-Diphenyl-2-hydroxyacetic acid (benzilic acid) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.18 | クロロベンジレート（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlorobenzilate (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| フェノール官能のカルボン酸（他の酸素官能基を有するものを除く。）並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | ||||
| Carboxylic acids with phenol function but without other oxygen function, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | ||||
| 2918.21 | サリチル酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Salicylic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.22 | オルト-アセチルサリチル酸並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| O-Acetylsalicylic acid, its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.23 | サリチル酸のその他のエステル及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other esters of salicylic acid and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.30 | アルデヒド官能又はケトン官能のカルボン酸（他の酸素官能基を有するものを除く。）並びにその酸無水物、酸ハロゲン化物、酸過酸化物及び過酸並びにこれらの誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Carboxylic acids with aldehyde or ketone function but without other oxygen function, their anhydrides, halides, peroxides, peroxyacids and their derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2918.91 | 2,4,5-T（ISO）（2,4,5-トリクロロフェノキシ酢酸）並びにその塩及びエステル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2,4,5-T (ISO) (2,4,5-trichlorophenoxyacetic acid), its salts and esters | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2918.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第8節 非金属の無機酸のエステル及びその塩並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| VIII.- ESTERS OF INORGANIC ACIDS OF NON-METALS AND THEIR SALTS, AND THEIR HALOGENATED, SULPHONATED, NITRATED OR NITROSATED DERIVATIVES | ||||
| 29.19 | りん酸エステル及びその塩（ラクトホスフェートを含む。）並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Phosphoric esters and their salts, including lactophosphates; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| 2919.10 | トリス(2,3-ジブロモプロピル)ホスフェート | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2919.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.20 | 非金属のその他の無機酸のエステル（ハロゲン化水素酸エステルを除く。）及びその塩並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | |||
| Esters of other inorganic acids of non-metals (excluding esters of hydrogen halides) and their salts; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives. | ||||
| チオりん酸エステル（ホスホロチオエート）及びその塩並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Thiophosphoric esters (phosphorothioates) and their salts; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | ||||
| 2920.11 | パラチオン（ISO）及びパラチオンメチル（ISO）（メチルパラチオン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Parathion (ISO) and parathion-methyl (ISO) (methylparathion) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 亜りん酸エステル及びその塩並びにこれらのハロゲン化誘導体、スルホン化誘導体、ニトロ化誘導体及びニトロソ化誘導体 | ||||
| Phosphite esters and their salts; their halogenated, sulphonated, nitrated or nitrosated derivatives | ||||
| 2920.21 | 亜りん酸ジメチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dimethyl phosphite | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.22 | 亜りん酸ジエチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diethyl phosphite | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.23 | 亜りん酸トリメチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Trimethyl phosphite | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.24 | 亜りん酸トリエチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Triethyl phosphite | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.30 | エンドスルファン（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Endosulfan (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2920.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第9節 窒素官能化合物 | ||||
| IX.- NITROGEN-FUNCTION COMPOUNDS | ||||
| 29.21 | アミン官能化合物 | |||
| Amine -function compounds. | ||||
| 非環式モノアミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Acyclic monoamines and their derivatives; salts thereof : | ||||
| 2921.11 | メチルアミン、ジメチルアミン及びトリメチルアミン並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methylamine, di-methylamine or trimethylamine and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.12 | 2-（N，N-ジメチルアミノ）エチルクロリド塩酸塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-(N,N-Dimethylamino)ethylchloride hydrochloride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.13 | 2-（N，N-ジエチルアミノ）エチルクロリド塩酸塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-(N,N-Diethylamino)ethylchloride hydrochloride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.14 | 2-（N，N-ジイソプロピルアミノ）エチルクロリド塩酸塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-(N,N-Diisopropylamino)ethylchloride hydrochloride | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 非環式ポリアミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Acyclic polyamines and their derivatives; salts thereof : | ||||
| 2921.21 | エチレンジアミン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethylenediamine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.22 | ヘキサメチレンジアミン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Hexamethylenediamine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.30 | 飽和脂環式モノアミン、不飽和脂環式モノアミン、シクロテルペンモノアミン、飽和脂環式ポリアミン、不飽和脂環式ポリアミン及びシクロテルペンポリアミン並びにこれらの誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cyclanic, cyclenic or cycloterpenic mono- or polyamines, and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族モノアミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Aromatic monoamines and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2921.41 | アニリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aniline and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.42 | アニリン誘導体及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aniline derivatives and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.43 | トルイジン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Toluidines and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.44 | ジフェニルアミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diphenylamine and its derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.45 | 1-ナフチルアミン（アルファ-ナフチルアミン）及び2-ナフチルアミン（ベータ-ナフチルアミン）並びにこれらの誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 1-Naphthylamine (α-naphthylamine), 2-naphthylamine (β-naphthylamine) and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.46 | アンフェタミン（INN）、ベンツフェタミン（INN）、デキサンフェタミン（INN）、エチランフェタミン（INN）、フェンカンファミン（INN）、レフェタミン（INN）、レバンフェタミン（INN）、メフェノレクス（INN）及びフェンテルミン（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Amfetamine (INN), benzfetamine (INN), dexamfetamine (INN), etilamfetamine (INN), fencamfamin (INN), lefetamine (INN), levamfetamine (INN), mefenorex (INN) and phentermine (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 芳香族ポリアミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Aromatic polyamines and their derivatives; salts thereof : | ||||
| 2921.51 | オルト-フェニレンジアミン、メタ-フェニレンジアミン、パラ-フェニレンジアミン及びジアミノトルエン並びにこれらの誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| o-, m-, p-Phenylenediamine, diaminotoluenes, and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2921.59 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.22 | 酸素官能のアミノ化合物 | |||
| Oxygen-function amino-compounds. | ||||
| アミノアルコール（二種類以上の酸素官能基を有するものを除く。）並びにそのエーテル及びエステル並びにこれらの塩 | ||||
| Amino-alcohols, other than those containing more than one kind of oxygen function, their ethers and esters; salts thereof : | ||||
| 2922.11 | モノエタノールアミン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Monoethanolamine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.12 | ジエタノールアミン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diethanolamine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.14 | デキストロプロポキシフェン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dextropropoxyphene (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.15 | トリエタノールアミン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Triethanolamine | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.16 | ペルフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアンモニウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diethanolammonium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.17 | メチルジエタノールアミン及びエチルジエタノールアミン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methyldiethanolamine and ethyldiethanolamine | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.18 | 2-（N，N-ジイソプロピルアミノ）エタノール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-(N,N-Diisopropylamino)ethanol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2922.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| アミノナフトールその他のアミノフェノール（二種類以上の酸素官能基を有するものを除く。）並びにそのエーテル及びエステル並びにこれらの塩 | ||||
| Amino-naphthols and other amino-phenols, other than those containing more than one kind of oxygen function, their ethers and esters; salts thereof | ||||
| 2922.21 | アミノヒドロキシナフタレンスルホン酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aminohydroxynaphthalenesulphonic acids and their salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| アミノアルデヒド、アミノケトン及びアミノキノン（二種類以上の酸素官能基を有するものを除く。）並びにこれらの塩 | ||||
| Amino-aldehydes, amino-ketones and amino-quinones, other than those containing more than one kind of oxygen function; salts thereof | ||||
| 2922.31 | アンフェプラモン（INN）、メサドン（INN）及びノルメサドン（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Amfepramone (INN), methadone (INN) and normethadone (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2922.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| アミノ酸（二種類以上の酸素官能基を有するものを除く。）及びそのエステル並びにこれらの塩 | ||||
| Amino-acids, other than those containing more than one kind of oxygen function, and their esters; salts thereof | ||||
| 2922.41 | リジン及びそのエステル並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lysine and its esters; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2922.42 | グルタミン酸及びその塩 | CTSH | ― | CTSH |
| Glutamic acid and its salts | CTSH | ― | CTSH | |
| 2922.43 | アントラニル酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Anthranilic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2922.44 | チリジン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tilidine (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2922.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2922.50 | アミノアルコールフェノール、アミノ酸フェノール及び酸素官能基を有するその他のアミノ化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Amino-alcohol-phenols, amino-acid-phenols and other amino-compounds with oxygen function | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.23 | 第四級アンモニウム塩、水酸化第四級アンモニウム及びレシチンその他のホスホアミノリピド（レシチンその他のホスホアミノリピドについては、化学的に単一であるかないかを問わない。） | |||
| Quaternary ammonium salts and hydroxides; lecithins and other phosphoaminolipids, whether or not chemically defined. | ||||
| 2923.10 | コリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Choline and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2923.20 | レシチンその他のホスホアミノリピド | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lecithins and other phosphoaminolipids | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2923.30 | ペルフルオロオクタンスルホン酸テトラエチルアンモニウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetraethylammonium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2923.40 | ペルフルオロオクタンスルホン酸ジデシルジメチルアンモニウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Didecyldimethylammonium perfluorooctane sulphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2923.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.24 | カルボキシアミド官能化合物及び炭酸のアミド官能化合物 | |||
| Carboxyamide -function compounds; amide-function compounds of carbonic acid. | ||||
| 非環式アミド（非環式カルバマートを含む。）及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Acyclic amides (including acyclic carbamates) and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2924.11 | メプロバメート（INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Meprobamate (INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2924.12 | フルオロアセトアミド（ISO）、モノクロトホス（ISO）及びホスファミドン（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Fluoroacetamide (ISO), monocrotophos (ISO) and phosphamidon (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2924.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 環式アミド（環式カルバマートを含む。）及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Cyclic amides (including cyclic carbamates) and their derivatives; salts thereof : | ||||
| 2924.21 | ウレイン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ureines and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2924.23 | 2-アセトアミド安息香酸（N-アセチルアントラニル酸）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-Acetamidobenzoic acid (N-acetylanthranilic acid) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2924.24 | エチナメート（INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ethinamate (INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2924.25 | アラクロール（ISO） | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alachlor (ISO) | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2924.29 | その他のもの | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.25 | カルボキシイミド官能化合物（サッカリン及びその塩を含む。）及びイミン官能化合物 | |||
| Carboxyimide -function compounds (including saccharin and its salts) and imine -function compounds. | ||||
| イミド及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Imides and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2925.11 | サッカリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Saccharin and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2925.12 | グルテチミド（INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Glutethimide (INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2925.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| イミン及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Imines and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2925.21 | クロルジメホルム（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chlordimeform (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2925.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.26 | ニトリル官能化合物 | |||
| Nitrile -function compounds. | ||||
| 2926.10 | アクリロニトリル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Acrylonitrile | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2926.20 | 1-シアノグアニジン（ジシアンジアミド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 1-Cyanoguanidine (dicyandiamide) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2926.30 | フェンプロポレクス（INN）及びその塩並びにメサドン（INN）中間体（4-シアノ-2-ジメチルアミノ-4,4-ジフェニルブタン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Fenproporex (INN) and its salts; methadone (INN) intermediate (4-cyano-2-dimethylamino-4,4-diphenylbutane) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2926.40 | アルファ-フェニルアセトアセトニトリル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alpha-Phenylacetoacetonitrile | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2926.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.27 | ||||
| 2927.00 | ジアゾ化合物、アゾ化合物及びアゾキシ化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diazo-, azo- or azoxy-compounds. | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.28 | ||||
| 2928.00 | ヒドラジン又はヒドロキシルアミンの有機誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Organic derivatives of hydrazine or of hydroxylamine. | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.29 | その他の窒素官能基を有する化合物 | |||
| Compounds with other nitrogen function. | ||||
| 2929.10 | イソシアナート | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Isocyanates | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2929.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 第10節 オルガノインオルガニック化合物、複素環式化合物及び核酸並びにこれらの塩並びにスルホンアミド | ||||
| X.- ORGANO-INORGANIC COMPOUNDS, HETEROCYCLIC COMPOUNDS, NUCLEIC ACIDS AND THEIR SALTS, AND SULPHONAMIDES | ||||
| 29.30 | 有機硫黄化合物 | |||
| Organo-sulphur compounds. | ||||
| 2930.20 | チオカルバマート及びジチオカルバマート | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Thiocarbamates and dithiocarbamates | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2930.30 | チウラムモノスルフィド、チウラムジスルフィド及びチウラムテトラスルフィド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Thiuram mono-, di- or terasulphides | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2930.40 | メチオニン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Methionine | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2930.60 | 2-（N，N-ジエチルアミノ）エタンチオール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-(N,N-Diethylamino)ethanethiol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2930.70 | ビス（2-ヒドロキシエチル）スルフィド（チオジグリコール（INN）） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Bis(2-hydroxyethyl)sulfide (thiodiglycol (INN)) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2930.80 | アルジカルブ（ISO）、カプタホール（ISO）及びメタミドホス（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aldicarb (ISO), captafol (ISO) and methamidophos (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2930.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.31 | その他のオルガノインオルガニック化合物 | |||
| Other organo-inorganic compounds. | ||||
| 2931.10 | テトラメチル鉛及びテトラエチル鉛 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetramethyl lead and tetraethyl lead | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.20 | トリブチルすず化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tributyltin compounds | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他の有機りん誘導体 | ||||
| Other organo-phosphorous derivatives | ||||
| 2931.31 | メチルホスホン酸ジメチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dimethyl methylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.32 | プロピルホスホン酸ジメチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Dimethyl propylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.33 | エチルホスホン酸ジエチル | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Diethyl ethylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.34 | メチルホスホン酸3-（トリヒドロキシシリル）プロピルナトリウム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Sodium 3-(trihydroxysilyl)propyl methylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.35 | 2，4，6-トリプロピル-1，3，5，2，4，6-トリオキサトリホスホン酸2，4，6-トリオキシド） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2,4,6-Tripropyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriphosphinane 2,4,6-trioxide | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.36 | （5-エチル-2-メチル-2-オキシド-1，3，2-ジオキサホスフィナン-5-イル）メチルメチルメチルホスホネート | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| (5-Ethyl-2-methyl-2-oxido-1,3,2-dioxaphosphinan-5-yl)methyl methylmethylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2931.37 | ビス［（5-エチル-2-メチル-2-オキシド-1，3，2-ジオキサホスフィナン-5-イル）メチル］メチルホスホネート | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Bis[(5-ethyl-2-methyl-2-oxido-1,3,2-dioxaphosphinan-5-yl)methyl]methylphosphonate | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.38 | メチルホスホン酸と（アミノイミノメチル）尿素との1：1の割合の塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Salt of methylphosphonic acid and (aminoiminomethyl)urea (1 : 1) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2931.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.32 | 複素環式化合物（ヘテロ原子として酸素のみを有するものに限る。） | |||
| Heterocyclic compounds with oxygen hetero -atom(s) only. | ||||
| 非縮合フラン環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing an unfused furan ring (whether or not hydrogenated) in the structure | ||||
| 2932.11 | テトラヒドロフラン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetrahydrofuran | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.12 | 2-フルアルデヒド（フルフラール） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 2-Furaldehyde (furfuraldehyde) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.13 | フルフリルアルコール及びテトラヒドロフルフリルアルコール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Furfuryl alcohol and tetrahydrofurfuryl alcohol | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.14 | スクラロース | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Sucralose | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.20 | ラクトン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lactones | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2932.91 | イソサフロール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Isosafrole | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.92 | 1-(1,3-ベンゾジオキソール-5-イル)プロパン-2-オン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 1-(1,3-Benzodioxol-5-yl)propan-2-one | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.93 | ピペロナール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Piperonal | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.94 | サフロール | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Safrole | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.95 | テトラヒドロカンナビノール（すべての異性体を含む。） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetrahydrocannabinols (all isomers) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2932.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.33 | 複素環式化合物（ヘテロ原子として窒素のみを有するものに限る。） | |||
| Heterocyclic compounds with nitrogen hetero-atom(s) only. | ||||
| 非縮合ピラゾール環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing an unfused pyrazole ring (whether or not hydrogenated) in the structure | ||||
| 2933.11 | フェナゾン（アンチピリン）及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Phenazone (antipyrin) and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 非縮合イミダゾール環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing an unfused imidazole ring (whether or not hydrogenated) in the structure | ||||
| 2933.21 | ヒダントイン及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Hydantoin and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 非縮合ピリジン環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing an unfused pyridine ring (whether or not hydrogenated) in the structure | ||||
| 2933.31 | ピリジン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pyridine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.32 | ピペリジン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Piperidine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2933.33 | アルフェンタニル（INN）、アニレリジン（INN）、ベジトラミド（INN）、ブロマゼパム（INN）、ジフェノキシン（INN）、ジフェノキシレート（INN）、ジピパノン（INN）、フェンタニール（INN）、ケトベミドン（INN）、メチルフェニデート（INN）、ペンタゾシン（INN）、ペチジン（INN）、ペチジン（INN）中間体A、フェンシクリジン（INN）（PCP）、フェノペリジン（INN）、ピプラドロール（INN）、ピリトラミド（INN）、プロピラム（INN）及びトリメペリジン（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alfentanil (INN), anileridine (INN), bezitramide (INN), bromazepam (INN), difenoxin (INN), diphenoxylate (INN), dipipanone (INN), fentanyl (INN), ketobemidone (INN), methylphenidate (INN), pentazocine (INN), pethidine (INN), pethidine (INN) intermediate A, phencyclidine (INN) (PCP), phenoperidine (INN), pipradrol (INN), piritramide (INN), propiram (INN) and trimeperidine (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.39 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| キノリン環又はイソキノリン環（水素添加してあるかないかを問わないものとし、更に縮合したものを除く。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing in the structure a quinoline or isoquinoline ring-system (whether or not hydrogenated), not further fused | ||||
| 2933.41 | レボルファノール（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Levorphanol (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| ピリミジン環（水素添加してあるかないかを問わない。）又はピペラジン環を有する化合物 | ||||
| Compounds containing a pyrimidine ring (whether or not hydrogenated) or piperazine ring in the structure : | ||||
| 2933.52 | マロニル尿素（バルビツル酸）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Malonylurea (barbituric acid) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.53 | アロバルビタール（INN）、アモバルビタール（INN）、バルビタール（INN）、ブタルビタール（INN）、ブトバルビタール、シクロバルビタール（INN）、メチルフェノバルビタール（INN）、ペントバルビタール（INN）、フェノバルビタール（INN）、セクブタバルビタール（INN）、セコバルビタール（INN）及びビニルビタール（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Allobarbital (INN), amobarbital (INN), barbital (INN), butalbital (INN), butobarbital, cyclobarbital (INN), methylphenobarbital (INN), pentobarbital (INN), phenobarbital (INN), secbutabarbital (INN), secobarbital (INN) and vinylbital (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.54 | その他のマロニル尿素（バルビツル酸）の誘導体及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other derivatives of malonylurea (barbituric acid); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2933.55 | ロプラゾラム（INN）、メクロカロン（INN）、メタカロン（INN）及びジペプロール（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Loprazolam (INN), mecloqualone (INN), methaqualone (INN) and zipeprol (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.59 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 非縮合トリアジン環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | ||||
| Compounds containing an unfused triazine ring (whether or not hydrogenated) in the structure : | ||||
| 2933.61 | メラミン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Melamine | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.69 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| ラクタム | ||||
| Lactams : | ||||
| 2933.71 | 6-ヘキサンラクタム（イプシロン-カプロラクタム） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| 6-Hexanelactam (epsilon-caprolactam) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.72 | クロバザム（INN）及びメチプリロン（INN） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Clobazam (INN) and methyprylon (INN) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.79 | その他のラクタム | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other lactams | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2933.91 | アルプラゾラム（INN）、カマゼパム（INN）、クロルジアゼポキシド（INN）、クロナゼパム（INN）、クロラゼペート、デロラゼパム（INN）、ジアゼパム（INN）、エスタゾラム（INN）、ロフラゼプ酸エチル（INN）、フルジアゼパム（INN）、フルニトラゼパム（INN）、フルラゼパム（INN）、ハラゼパム（INN）、ロラゼパム（INN）、ロルメタゼパム（INN）、マジンドール（INN）、メダゼパム（INN）、ミダゾラム（INN）、ニメタゼパム（INN）、ニトラゼパム（INN）、ノルダゼパム（INN）、オキサゼパム（INN）、ピナゼパム（INN）、プラゼパム（INN）、ピロバレロン（INN）、テマゼパム（INN）、テトラゼパム（INN）及びトリアゾラム（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alprazolam (INN), camazepam (INN), chlordiazepoxide (INN), clonazepam (INN), clorazepate, delorazepam (INN), diazepam (INN), estazolam (INN), ethyl loflazepate (INN), fludiazepam (INN), flunitrazepam (INN), flurazepam (INN), halazepam (INN), lorazepam (INN), lormetazepam (INN), mazindol (INN), medazepam (INN), midazolam (INN), nimetazepam (INN), nitrazepam (INN), nordazepam (INN), oxazepam (INN), pinazepam (INN), prazepam (INN), pyrovalerone (INN), temazepam (INN), tetrazepam (INN) and triazolam (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.92 | アジンホスメチル（ISO） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Azinphos-methyl (ISO) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2933.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.34 | 核酸及びその塩（化学的に単一であるかないかを問わない。）並びにその他の複素環式化合物 | |||
| Nucleic acids and their salts, whether or not chemically defined; other heterocyclic compounds. | ||||
| 2934.10 | 非縮合チアゾール環（水素添加してあるかないかを問わない。）を有する化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Compounds containing an unfused thiazole ring (whether or not hydrogenated) in the structure | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2934.20 | ベンゾチアゾール環（水素添加してあるかないかを問わないものとし、更に縮合したものを除く。）を有する化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Compounds containing in the structure a benzothiazole ringsystem (whether or not hydrogenated), not further fused | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2934.30 | フェノチアジン環（水素添加してあるかないかを問わないものとし、更に縮合したものを除く。）を有する化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Compounds containing in the structure a phenothiazine ringsystem (whether or not hydrogenated), not further fused | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの | ||||
| Other | ||||
| 2934.91 | アミノレクス（INN）、ブロチゾラム（INN）、クロチアゼパム（INN）、クロキサゾラム（INN）、デキストロモラミド（INN）、ハロキサゾラム（INN）、ケタゾラム（INN）、メソカルブ（INN）、オキサゾラム（INN）、ペモリン（INN）、フェンジメトラジン（INN）、フェンメトラジン（INN）及びスフェンタニル（INN）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Aminorex (INN), brotizolam (INN), clotiazepam (INN), cloxazolam (INN), dextromoramide (INN), haloxazolam (INN), ketazolam (INN), mesocarb (INN), oxazolam (INN), pemoline (INN), phendimetrazine (INN), phenmetrazine (INN) and sufentanil (INN); salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2934.99 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.35 | スルホンアミド | |||
| Sulphonamides | ||||
| 2935.10 | N-メチルペルフルオロオクタンスルホンアミド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| N-Methylperfluorooctane sulphonamide | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2935.20 | N-エチルペルフルオロオクタンスルホンアミド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| N-Ethylperfluorooctane sulphonamide | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2935.30 | N-エチル-N-（2-ヒドロキシエチル）ペルフルオロオクタンスルホンアミド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| N-Ethyl-N-(2-hydroxyethyl) perfluorooctane sulphonamide | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2935.40 | N-（2-ヒドロキシエチル）-N-メチルペルフオロオクタンスルホンアミド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| N-(2-Hydroxyethyl)-N-methylperfluorooctane sulphonamide | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2935.50 | その他のペルフルオロオクタンスルホンアミド | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other perfluorooctane sulphonamides | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2935.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第11節 プロビタミン、ビタミン及びホルモン | ||||
| XI.- PROVITAMINS, VITAMINS AND HORMONES | ||||
| 29.36 | プロビタミン及びビタミン（天然のもの及びこれと同一の構造を有する合成のもの（天然のものを濃縮したものを含む。）に限る。）並びにこれらの誘導体で主としてビタミンとして使用するもの並びにこれらの相互の混合物（この項の物品については、溶媒に溶かしてあるかないかを問わない。） | |||
| Provitamins and vitamins, natural or reproduced by synthesis (including natural concentrates), derivatives thereof used primarily as vitamins, and intermixtures of the foregoing, whether or not in any solvent. | ||||
| ビタミン及びその誘導体（混合してないものに限る。） | ||||
| Vitamins and their derivatives, unmixed : | ||||
| 2936.21 | ビタミンA及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamins A and their derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.22 | ビタミンB1及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin B1 and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.23 | ビタミンB2及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin B2 and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.24 | D-パントテン酸及びDL-パントテン酸（ビタミンB3又はビタミンB5）並びにこれらの誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| D- or DL-Pantothenic acid (Vitamin B3 or Vitamin B5) and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.25 | ビタミンB6及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin B6 and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.26 | ビタミンB12及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin B12 and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.27 | ビタミンC及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin C and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.28 | ビタミンE及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Vitamin E and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.29 | その他のビタミン及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other vitamins and their derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2936.90 | その他のもの（天然のものを濃縮したものを含む。） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other, including natural concentrates | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.37 | ホルモン、プロスタグランジン、トロンボキサン及びロイコトリエン（天然のもの及びこれと同一の構造を有する合成のものに限る。）並びにこれらの誘導体及び構造類似物（主としてホルモンとして使用するもので、変性ポリペプチドを含む。） | |||
| Hormones, prostaglandins, thromboxanes and leukotrienes, natural or reproduced by synthesis; derivatives and structural analogues thereof, including chain modified polypeptides, used primarily as hormones. | ||||
| ポリペプチドホルモン、たんぱく質ホルモン及び糖たんぱく質ホルモン並びにこれらの誘導体及び構造類似物 | ||||
| Polypeptide hormones, protein hormones and glycoprotein hormones, their derivatives and structural analogues : | ||||
| 2937.11 | ソマトトロピン並びにその誘導体及び構造類似物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Somatotropin, its derivatives and structural analogues | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.12 | インスリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Insulin and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| ステロイドホルモン並びにその誘導体及び構造類似物 | ||||
| Steroidal hormones, their derivatives and structural analogues : | ||||
| 2937.21 | コルチゾン、ヒドロコルチゾン、プレドニゾン（デヒドロコルチゾン）及びプレドニゾロン（デヒドロヒドロコルチゾン） | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cortisone, hydrocortisone, prednisone (dehydrocortisone) and prednisolone (dehydrohydrocortisone) | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.22 | コルチコステロイドホルモンのハロゲン化誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Halogenated derivatives of corticosteroidal hormones | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.23 | エストロゲン及びプロゲストゲン | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Oestrogens and progestogens | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.29 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.50 | プロスタグランジン、トロンボキサン及びロイコトリエン並びにこれらの誘導体及び構造類似物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Prostaglandins, thromboxanes and leukotrienes, their derivatives and structural analogues | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2937.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第12節 グリコシド及びアルカロイド（天然のもの及びこれと同一の構造を有する合成のものに限る。）並びにこれらの塩、エーテル、エステルその他の誘導体 | ||||
| XII.- GLYCOSIDES AND ALKALOIDS, NATURAL OR REPRODUCED BY SYNTHESIS, AND THEIR SALTS, ETHERS, ESTERS AND OTHER DERIVATIVES | ||||
| 29.38 | グリコシド（天然のもの及びこれと同一の構造を有する合成のものに限る。）及びその塩、エーテル、エステルその他の誘導体 | |||
| Glycosides, natural or reproduced by synthesis, salts, ethers, esters and other derivatives. | ||||
| 2938.10 | ルトシド（ルチン）及びその誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Rutoside (rutin) and its derivatives | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2938.90 | その他のもの | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 29.39 | アルカロイド（天然のもの及びこれと同一の構造を有する合成のものに限る。）及びその塩、エーテル、エステルその他の誘導体 | |||
| Alkaloids, natural or reproduced by synthesis, and their salts, ethers, esters and other derivatives. | ||||
| あへんアルカロイド及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Alkaloids of opium and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2939.11 | けしがら濃縮物並びにブプレノルフィン（INN）、コデイン、ジヒドロコデイン（INN）、エチルモルヒネ、エトルフィン（INN）、ヘロイン、ヒドロコドン（INN）、ヒドロモルホン（INN）、モルヒネ、ニコモルヒネ（INN）、オキシコドン（INN）、オキシモルホン（INN）、フォルコジン（INN）、テバコン（INN）及びテバイン並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Concentrates of poppy straw; buprenorphine (INN), codeine, dihydrocodeine (INN), ethylmorphine, etorphine (INN), heroin, hydrocodone (INN), hydromorphone (INN), morphine, nicomorphine (INN), oxycodone (INN), oxymorphone (INN), pholcodine (INN), thebacon (INN) and thebaine; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.19 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.20 | キナアルカロイド及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Alkaloids of cinchona and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.30 | カフェイン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Caffeine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| エフェドリン類及びその塩 | ||||
| Ephedrines and their salts | ||||
| 2939.41 | エフェドリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ephedrine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.42 | プソイドエフェドリン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Pseudoephedrine (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.43 | カチン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cathine (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.44 | ノルエフェドリン及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Norephedrine and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.49 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| テオフィリン及びアミノフィリン（テオフィリン-エチレンジアミン）並びにこれらの誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Theophylline and aminophylline (theophyllineethylenediamine) and their derivatives; salts thereof | ||||
| 2939.51 | フェネチリン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Fenetylline (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.59 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| ライ麦麦角のアルカロイド及びその誘導体並びにこれらの塩 | ||||
| Alkaloids of rye ergot and their derivatives; salts thereof : | ||||
| 2939.61 | エルゴメトリン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ergometrine (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.62 | エルゴタミン（INN）及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Ergotamine (INN) and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2939.63 | リゼルギン酸及びその塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Lysergic acid and its salts | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2939.69 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| その他のもの（植物由来のものに限る。） | ||||
| Other, of vegetal origin | ||||
| 2939.71 | コカイン、エクゴニン、レボメタンフェタミン、メタンフェタミン（INN）及びメタンフェタミンラセメート並びにこれらの塩、エステル及びその他の誘導体 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Cocaine, ecgonine, levometamfetamine, metamfetamine (INN), metamfetamine racemate; salts, esters and other derivatives thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.79 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 2939.80 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
|
| 第13節 その他の有機化合物 | ||||
| XIII.- OTHER ORGANIC COMPOUNDS | ||||
| 29.40 | ||||
| 2940.00 | 糖類（化学的に純粋なものに限るものとし、しよ糖、乳糖、麦芽糖、ぶどう糖及び果糖を除く。）並びに糖エーテル、糖アセタール、糖エステル、糖エーテルの塩、糖アセタールの塩及び糖エステルの塩（第29.37項から第29.39項までの物品を除く。） | CTSH | ― | CTSH |
| Sugars, chemically pure, other than sucrose, lactose, maltose, glucose and fructose; sugar ethers, sugar acetals and sugar esters, and their salts, other than products of heading 29.37, 29.38 or 29.39. | CTSH | ― | CTSH | |
| 29.41 | 抗生物質 | |||
| Antibiotics. | ||||
| 2941.10 | ペニシリン及びその誘導体（ペニシラン酸構造を有するものに限る。）並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Penicillins and their derivatives with a penicillanic acid structure; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2941.20 | ストレプトマイシン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Streptomycins and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2941.30 | テトラサイクリン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Tetracyclines and their derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2941.40 | クロラムフェニコール及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Chloramphenicol and its derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2941.50 | エリスロマイシン及びその誘導体並びにこれらの塩 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Erythromycin and its derivatives; salts thereof | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 2941.90 | その他のもの | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |
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| 29.42 | ||||
| 2942.00 | その他の有機化合物 | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） | ― | CTSH、 化学反応、精製、粒径の変更、標準物質の生産、異性体分離若しくは生物工学的工程が行われること、 MaxNOM五十パーセント（EXW）又は RVC五十五パーセント（FOB） |
| Other organic compounds. | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). | ― | CTSH; A chemical reaction, purification, a change in particle size, production of standard materials, isomer separation or biotechnological processing is undergone; MaxNOM 50 % (EXW); or RVC 55 % (FOB). |